Универсальное решение для производства фотошаблонов и прямого экспонирования подложек
Сегодня в фотолитографии используются самые разнообразные системы экспонирования фоточувствительных слоев, различающиеся по типу источника излучения, степени автоматизации, минимальному разрешению, наличию или отсутствию промежуточного шаблона и т. д. Какие же системы лучше подходят для определенных задач и есть ли среди них универсальные, способные заменить собой одновременно несколько других?