Универсальное решение для производства фотошаблонов и прямого экспонирования подложек

Сегодня в фотолитографии используются самые разнообразные системы экспонирования фоточувствительных слоев, различающиеся по типу источника излучения, степени автоматизации, минимальному разрешению, наличию или отсутствию промежуточного шаблона и т. д. Какие же системы лучше подходят для определенных задач и есть ли среди них универсальные, способные заменить собой одновременно несколько других?

Генерация плазмы.
Выбор правильного решения

В профессиональных обсуждениях часто поднимают тему плазмы как современного инструмента высокотехнологичных производств, позволяющего существенно улучшать характеристики выпускаемых изделий. Что же такое плазма вообще? Какие виды плазмы существуют, чем они различаются и какие из них лучше подходят для того или иного применения?