отправка...Обновления линейки оборудования для измерения ионных загрязнений
11 июня, 2010
Компания Gen3 Systems представляет обновленную линейку систем для контроля ионных загрязнений. На рынок поступили новые модели — CM22 и CM33. Внедрение данных новинок сделало линейку оборудования CM для проверки степени ионных загрязнений более гибкой и позволило представлять оборудование во всех ценовых категориях. Сейчас в состав линейки CM входят из: CM11+ — настольная система для мелкосерийных производств. CM22 — […]Школа производства ГПИС. Фотолитография. Третий этап — передача рисунка на материал интегральной микросхемы
20 января, 2009
Максим Шмаков Валерий Паршин Передача рисунка материала интегральной микросхемы (ИМС) является заключительным этапом процесса фотолитографии (ФЛ). Данный этап состоит из 2 операций (рис. 1): удаление материала микросхемы (через проявленный фоторезист (ФР)); удаление резистивной маски. Удаление материала микросхемы (травление технологического слоя) через маску в слое фоторезиста (ФР) бывает двух видов (рис. 2), каждый из которых делится […]Космические стандарты в поверхностном монтаже, или Секрет успеха Samsung Techwin
17 марта, 2009
При существующем и растущем многообразии автоматов установки компонентов поверхностного монтажа, представленных на российском рынке, сделать выбор становится все сложнее и сложнее. Приходится учитывать множество параметров: производительность оборудования, гибкость, точность и повторяемость установки компонентов, диапазон их корпусов и многое другое. Соответствие возможностей автомата сегодняшним и завтрашним потребностям производства становится решающим фактором.
Подписка на новости