Группа компаний Picosun оптимизировала процессы атомно-слоевого осаждения пленок Al2O3 и SiO2. В ходе исследований использовалась установка атомно-слоевого осаждения PICOSUN Sprinter ALD system для осаждения пленок Al2O3 и SiO2. Результаты измерений пленок Al2O3 показали отличную однородность толщины даже при низкой температуре осаждения +90 °C. А при температуре осаждения +300 °C однородность оказалась на рекордном уровне < 0,2% 1 сигма при измерении на одной пластине. Кроме того, за последние два месяца специалистам удалось повысить производственную мощность более чем вдвое без ...