Универсальное решение для производства фотошаблонов и прямого экспонирования подложек

Сегодня в фотолитографии используются самые разнообразные системы экспонирования фоточувствительных слоев, различающиеся по типу источника излучения, степени автоматизации, минимальному разрешению, наличию или отсутствию промежуточного шаблона и т. д. Какие же системы лучше подходят для определенных задач и есть ли среди них универсальные, способные заменить собой одновременно несколько других?

Фотолитография в технологии изготовления плат силовых модулей специального назначения

В статье представлен обзор технологий формирования медных проводников плат на теплоотводящем керамическом основании. Описан способ послойного нанесения сухого пленочного фоторезиста при создании квазимонолитного толстого слоя фоторезиста с целью получения методами контактной фотолитографии глубокого рельефа для гальванического осаждения меди. Приведены экспериментально подтвержденные результаты...

Технологический прорыв в технике экспонирования при производстве печатных плат.
Прямое экспонирование составным светодиодным источником излучения

На рубеже 2009–2010 годов стремительно увеличилась популярность применения оборудования прямого экспонирования в производстве печатных плат. Впрочем, не всякий изготовитель может предложить на рынке оборудование, обладающее свойствами, привлекательными для потребителя: доступная цена, а также высокая производительность по травильному резисту и паяльной маске при сравнительно низких эксплуатацио...