Резист Allresist Medusa 82 — альтернатива HSQ

Компания Allresist разработала Medusa 82 в качестве альтернативы резистам HSQ. В связи с модификацией полимера резист Medusa 82 может быть очень легко обработан. При облучении электронным лучом полимерного материала Medusa 82 образуются структуры SiO2, что дает множество перспективных применений.

Промежуток времени в несколько дней между нанесением покрытия, экспонированием и проявлением теперь возможен без каких-либо потерь в качестве. В остальном чувствительность, травление и разрешение соответствуют свойствам резиста HSQ.

Для новой модификации этого резиста чувствительность может быть даже увеличена в 20 раз. Благодаря добавлению генератора фотокислот теперь требуется всего 60 мкК/см² для достижения полного сшивания. Таким образом, особенно устойчивые к травлению маски можно будет экспонировать примерно в 20 раз быстрее, чем раньше.