Металлизация в среде Altium Designer: Polygon Pour

Создание полигона

В общем случае процесс формирования полигона состоит из двух этапов:

1. Предварительная настройка полигона.
2. Формирование контура.

Для того чтобы приступить к формированию полигона, необходимо выполнить команду Place → Polygon Pour…. В результате откроется окно Polygon Pour… (рис. 1).

Рис. 1. Окно Polygon Pour…

Предварительная настройка полигона

В верхней части окна Polygon Pour… расположен переключатель Fill Mode, предназначенный для выбора одного из трех типов полигона:

• Solid (Copper Regions)— сплошная заливка;
• Hatched (Tracks/Arcs)— сетчатый полигон;
• None (Outlines Only)— полигон в виде линий, проходящих по всем контурам полигона.

Сразу под переключателем Fill Mode расположено поле, содержащее схематическое отображение будущего полигона и геометрические настройки. Каждому типу полигона соответствует свой набор геометрических опций.

Геометрические опции полигона типа Solid (Copper Regions)

На рис. 2 приведен пример полигона типа Solid (Copper Regions).

Рис. 2. Пример полигона типа Solid (Copper Regions)

Рассмотрим геометрические опции сплошной заливки (рис. 1). Опция Remove Islands Less Than устанавливает минимальную площадь отдельного островка полигона. Если площадь такого островка будет меньше заданного значения, то он не сформируется (рис. 3). Галочка, расположенная правее опции, дает возможность отключить данную функцию.

Рис. 3. Пример работы опции Remove Islands Less Than:
в пределах левой петли, образованной проводником цепи N1, островок заливки отсутствует, так как его площадь была бы меньше заданного опцией значения

Под опцией Remove Islands Less Than расположена опция Arc Approximation. Огибающие окружности полигонов формируются не с помощью дуг, а посредством набора прямых. Значение опции Arc Approximation задает максимальное отклонение огибающей от идеальной окружности. Чем меньше значение этой опции, тем больше прямых используется для построения огибающей и, соответственно, тем более ровной получается огибающая (рис. 4).

Рис. 4. Пример работы опции Arc Approximation:
слева — Arc Approximation = 0,001 мм;
справа — Arc Approximation = 0,5 мм

И наконец, опция Remove Necks When Copper Width Less Then определяет минимальную ширину перемычки, образуемой полигоном в узком месте. Если ширина такой перемычки меньше заданного опцией значения, то она формироваться не будет (рис. 5). Эту опцию также можно отключить с помощью расположенной правее галочки.

Рис. 5. Пример работы опции Remove Necks When Copper Width Less Then: между левой петлей проводника цепи N3 и расположенным ниже проводником отсутствует перемычка, так как ширина этой перемычки была бы меньше значения, заданного опцией

Геометрические опции полигона типа Hatched (Tracks/Arcs)

На рис. 6 приведен частичный вид окна Polygon Pour… в режиме Hatched (Tracks/Arcs), а на рис. 7 показан пример сетчатого полигона.

Рис. 6. Окно Polygon Pour… в режиме полигона Hatched (Tracks/Arcs)

Рис. 7. Пример сетчатого полигона

Для сетчатого полигона предусмотрен иной набор геометрических опций. Опция Track Width определяет ширину отрезков и дуг, из которых состоит полигон. Опция Gird Size задает шаг сетки. Опция Surround Pads With определяет режим огибания контактных площадок (рис. 8):

• Arcs— с помощью дуги или окружности;
• Octagons— с помощью восьмиугольников.

Рис. 8. Пример работы опции Surround Pads With:
левая контактная площадка огибается дугой,
правая — восьмиугольником

Опция Hatch Mode определяет один из четырех режимов сетки (рис. 9):

• 90 degree— сетка расположена под углом 90°;
• 45 degree— сетка расположена под углом 45°;
• Horizontal— сетка состоит из горизонтальных линий;
• Vertical— сетка состоит из вертикальных линий.

Рис. 9. Примеры работы опции Hatch Mode (слева направо): 90 degree, 45 degree, Horizontal, Vertical

Геометрические опции полигона типа None (Outlines Only)

На рис. 10 приведен частичный вид окна Polygon Pour… в режиме None (Outlines Only), а на рис. 11 — пример соответствующего полигона.

Рис. 10. Окно Polygon Pour… в режиме полигона None (Outlines Only)

Рис. 11. Пример полигона типа None (Outlines Only)

Геометрические опции полигона типа None (Outlines Only) отличаются от геометрических опций полигона типа Hatched (Tracks/Arcs) только тем, что опции Grid Size и Hatch Mode недоступны. Назначение остальных опций идентично.

Свойства полигона

Для настроек свойств полигона предназначены опции в области Properties. Эта область расположена в нижней левой части окна Polygon Pour… (рис. 1).

Поле ввода Name предназначено для ввода имени полигона. Если включить галочку Auto Naming, это имя будет формироваться автоматически. Выпадающий список Layer предназначен для выбора слоя. Поле ввода Min Prim Length доступно только для полигонов типа Hatched (Tracks/Arcs) и None (Outlines Only) и предназначено для задания минимальной длины отрезков и дуг, из которых состоят полигоны указанных типов (рис. 12). Галочка Lock Primitives блокирует примитивы, из которых состоит полигон. Галочка Locked блокирует весь полигон. Включение галочки Ignore On-Line Violations позволяет отключить контроль в реальном времени некоторых ошибок, связанных с полигоном.

Рис. 12. Пример работы опции Min Prim Length:
слева — Min Prim Length = 0,01 мм;
справа — Min Prim Length = 1 мм,
следовательно, отрезки и дуги меньшей длины отсутствуют

Подключение полигона к цепи

Для подключения полигона к определенной цепи предназначены опции в области Net Options, расположенной в правой нижней части окна Polygon Pour… (рис. 1).

С помощью выпадающего списка Connect to Net можно выбрать цепь, к которой необходимо подключить полигон. Ниже расположено выпадающее меню, с помощью которого определяется поведение полигона по отношению к элементам топологии, подключенным к той же цепи (рис. 13):

• Don’t Pour Over Same Net Objects — полигон огибает все элементы топологии, в том числе и подключенные к той же цепи;
• Pour Over Same Net Polygons Only — полигон заливает только полигоны, подключенные к той же цепи, и огибает все остальные элементы топологии;
• Pour Over All Same Net Objects — полигон заливает все объекты топологии, подключенные к той же цепи.

Рис. 13. Примеры режимов огибания полигоном объектов топологии

Включение галочки Remove Dead Copper позволяет удалить «мертвые» островки полигона, которые не могут быть подключены к той же цепи, что и сам полигон (рис. 14).

Рис. 14. Пример включения опции Remove Dead Copper — были удалены островки полигона, которые невозможно подключить к той же цепи, что и полигон

Формирование контура полигона

После того как настройка полигона закончена, нажатием кнопки OK окно Polygon Pour… закроется, и среда Altium Designer перейдет в режим формирования контура. Контур формируется по вершинам. Первый щелчок левой клавишей мыши (далее — ЛКМ) задает начальную точку контура полигона (рис. 15). Каждый последующий щелчок, в зависимости от режима формирования угла, создает один отрезок, два отрезка под углом или два отрезка с дугой сопряжения.

Рис. 15. Формирование контура полигона

Существует пять режимов формирования угла (рис. 16):

• 45°— формируется сразу два отрезка под углом 45°;
• 45° с дугой сопряжения— формируется сразу два отрезка под углом 45° с дугой сопряжения между ними;
• 90°— формируется сразу два отрезка под углом 90°;
• 90° с дугой сопряжения— формируется сразу два отрезка под углом 90° с дугой сопряжения между ними;
• свободный угол— формируется один отрезок под любым углом.

Рис. 16. Режимы формирования угла

Переключение между режимами происходит последовательно при нажатии сочетания клавиш Shift + «Пробел».

Во всех режимах, кроме режима свободного угла, с помощью клавиши «Пробел» можно поменять местами вертикальный отрезок с горизонтальным или вертикальный отрезок с отрезком под углом. Нажатие клавиши Backspace удаляет последний сегмент. В режимах формирования угла с дугой радиус дуги можно менять с помощью клавиш «<» и «>» или с помощью сочетаний клавиш Shift + «<» и Shift + «>». Во втором случае радиус дуги будет меняться с большим шагом.

Во всех режимах формирования угла, кроме режима любого угла, периодически возникает ситуация, когда нужно, чтобы после нажатия левой клавиши мыши сформировался только первый сегмент или первый сегмент с дугой, но при этом необходимо предвидеть, как «ляжет» последний. Для таких случаев предусмотрен режим Look-Ahead. Чтобы его включить или выключить, необходимо нажать клавишу «1» на клавиатуре. На рис. 17 продемонстрировано, как работает режим Look-Ahead. После второго щелчка ЛКМ сформировался только первый сегмент контура полигона. Он отображен красной линией. Серой сплошной линией отображается сегмент, который будет сформирован после следующего щелчка ЛКМ. А сегмент, которой при этом только предполагается, но не будет сформирован, отображается серой штриховой линией.

Рис. 17. Пример формирования контура полигона с применением режима Look-Ahead

Когда формирование контура закончено, необходимо нажать правую клавишу мыши (далее — ПКМ) или клавишу Esc на клавиатуре, и полигон будет сформирован.

Управление полигонами из рабочего окна

Если выделить полигон и щелкнуть на нем ПКМ, то откроется выпадающее меню, в котором можно найти пункт Polygon Actions. Этот пункт содержит команды управления полигонами (рис. 18). Самый верхний пункт — Polygon Manager — открывает окно менеджера полигонов.

Рис. 18. Команды управления полигонами

После каждого изменения полигона его необходимо перезалить, чтобы применились все внесенные изменения. Для этих целей под пунктом Polygon Manager расположена группа команд Repour:

• Repour Selected— перезаливка выделенных полигонов;
• Repour All— перезаливка всех полигонов;
• Repour Violating Polygons— перезаливка полигонов с нарушениями;
• Repour Modified— перезаливка измененных полигонов.

Если существующие полигоны мешают корректировке топологии, их можно временно скрыть. Для этого предназначены команды Shelve Selected и Shelve All. Первая скрывает выделенные полигоны, а вторая — все присутствующие на плате. Эти полигоны остаются в PCB-файле и могут быть восстановлены.

Команды Bring to front и Send to back предназначены для изменения приоритета заливки текущего полигона: первая повышает его, вторая понижает.

Команда Move Polygon предназначена для переноса полигона на новое место. После ее выполнения полигон «привязывается» к курсору и двигается вместе с ним. Щелчок ЛКМ поместит полигон на новое место и закончит команду.

Команда Resize Polygon позволяет изменить размер полигона. После выполнения этой команды по периметру полигона появится восемь маркеров. На один из них нужно навести курсор и после того, как он изменит вид, зажать ЛКМ, перетянуть маркер на новое место и отпустить ЛКМ (рис. 19). Чтобы закончить работу с командой, достаточно щелкнуть ЛКМ на любом месте, кроме маркера. Маркеры и подсветка полигона исчезнут. Чтобы изменение полигона применилось, его необходимо перезалить.

Рис. 19. Пример использования команды Resize Polygon

Команда Slice Polygon Pour позволяет разделить полигон на две части. После выполнения команды Slice Polygon Pour среда Altium Designer перейдет в режим разделения полигона (рис. 20), в котором нужно сформировать границу разделения. Она должна начинаться и заканчиваться за пределами полигона. Она может быть сколь угодно сложной формы. Для нее также доступны все пять режимов формирования углов (рис. 16). Чтобы в процессе разделения полигонов граница была видна, рекомендуется или перевести режим отображения печатной платы в режим Draft Mode, или изменить тип полигона на None (Outlines Only), как показано на рис. 11.

Рис. 20. Пример разделения полигона

После того как граница разделения полигона сформирована, нужно сделать два щелчка ПКМ: первый завершит формирование линии, второй — режим формирования границы. Сразу после этого появится запрос о подтверждении разделения полигона. После ответа Yes остается только выполнить перезаливку полигонов. Пример результата разделения полигона приведен на рис. 21. Команду Slice Polygon Pour можно также найти в меню Tools.

Рис. 21. Пример разделенного полигона

Команда Explode Selected Polygons To Free Primitives позволяет преобразовать выбранный полигон в примитивы. Если текущий полигон относится к типу Solid (Copper Regions), то после выполнения данной команды он преобразуется в регион Solid Region. Если полигон относится к типу Hatched (Tracks/Arcs) или None (Outlines Only), то он будет преобразован в набор отрезков или дуг.

Некоторые команды управления полигонами также доступны в меню Tools → Polygon Pour (рис. 22). Команда Polygon Manager вызывает менеджер полигонов. Команды группы Repour полностью аналогичны вышеописанным (рис. 18). Команда Shelve X Polygon(s) предназначена для скрытия полигонов и аналогична команде Shelve All (рис. 18). Команда Restore X Shelved Polygon(s) обратна командам серии Shelve — она восстанавливает все скрытые полигоны.

Рис. 22. Меню Tools → Polygon Pour

Редактирование свойств полигона

Для редактирования свойств полигона необходимо открыть окно Polygon Pour… (рис. 1). Для этого нужно совершить двойной щелчок ЛКМ по полигону или выделить полигон одним щелчком ЛКМ, потом щелкнуть по нему ПКМ, чтобы выпало контекстное меню, из которого следует выбрать пункт Properties. Выделить можно только те полигоны, которые находятся на текущем слое. После внесения изменений в свойства полигона его необходимо перезалить.

Для изменения схемы автоматического наименования нужно выполнить команду Design → Board Options, в результате откроется окно Board Options. В области Polygon Auto Naming Template (рис. 23) расположено выпадающее меню, которое предлагает четыре схемы наименования. Имена существующих полигонов сразу изменятся в соответствии с выбранной схемой. Если в правилах есть обращение к конкретным полигонам по их именам, то они тоже будут изменены.

Рис. 23. Изменение схемы автоматического наименования полигонов

Управление зазорами и способом подключения полигонов к контактным площадкам

Величина зазоров между полигонами и остальными элементами в проводящих слоях, а также способ подключения полигонов к контактным площадкам задаются с помощью правил.

Правило Clearance определяет величину зазоров между различными элементами токопроводящих слоев. С помощью этого же правила указывают зазоры полигонов. Величины зазоров полигонов можно задать, отредактировав их значения в таблице зазоров в строке Poly (рис. 24).

Рис. 24. Управление зазорами полигонов с помощью общего правила Clearance

Для формирования зазоров полигонов используются и персональные правила. Их преимущество в том, что можно целенаправленно указать объекты, к которым эти правила должны применяться: сразу ко всем полигонам печатной платы, к группе или к отдельному полигону. Для формирования персонального правила полигона необходимо создать новое правило, а затем раскрыть выпадающее меню области Where The First Object Matches и выбрать пункт Custom Query (рис. 25). В результате правее выпадающего меню появится окно, в котором надо задать условия выбора полигонов. Если же правило должно применяться сразу ко всем полигонам печатной платы, то в окне нужно сформировать выражение InPolygon или InPoly. Следующий шаг — задать величину зазора в области Constraints в строке Minimum Clearance. Здесь также можно воспользоваться таблицей, чтобы указать различные величины зазоров для огибания полигонами различных элементов проводящего слоя.

Рис. 25. Формирование персонального правила для полигонов

Если требуется сформировать правило для полигонов, подключенных к определенной цепи, то в окне условий необходимо сформировать выражение: InPolygon AND InNet(‘X’), где X — имя цепи, а оператор AND указывает, что должны выполняться оба условия одновременно. В таком случае заданные зазоры будут применяться только к полигонам, подключенным к указанной цепи (рис. 26).

Рис. 26. Пример выбора полигонов, подключенных к определенной цепи

Когда необходимо обратиться к конкретному полигону по его имени, то в окне условий нужно записать выражение вида InNamedPolygon(‘Y’), где Y — имя полигона. Можно также обратиться по имени одновременно к нескольким полигонам, в таком случае между выражениями должен быть оператор OR (рис. 27).

Рис. 27. Пример обращения к полигонам по именам

Аналогично можно задавать условия для выбора полигонов, расположенных на определенных слоях, подключенных к цепям определенного класса, и так далее.

Правило Board Outline Clearance (рис. 28) позволяет задать отступ элементов проводящих слоев от края печатной платы. Следовательно, с его помощью формируются и отступы полигонов. За некоторыми очевидными исключениями работа с этим правилом аналогична работе с правилами группы Clearance.

Рис. 28. Управление отступом полигона от краев печатной платы

Для формирования стиля подключения полигонов к контактным площадкам предназначены правила группы Polygon Connect Style (рис. 29).

Рис. 29. Правило Polygon Connect Style

Условия выбора полигонов также задаются в областях Where The First Object Matches и Where The Second Object Matches. Стиль подключения контактных площадок указывают в области Constraints. В выпадающем меню Connect Style определяется один из трех типов подключения контактных площадок:

• Relief Connect— соединение с контактными площадками через термальный барьер;
• Direct Connect— непосредственно подключение к контактным площадкам;
• No Connect — полигон не подключается к контактным площадкам.

Если выбран пункт Relief Connect, то под выпадающим меню появляется поле выбора Conductors, где можно выбрать количество проводников для подключения к контактной площадке — два или четыре. Еще ниже расположено выпадающее меню выбора угла, под которым проводники подходят к контактной площадке, — 90° или 45°. На схематическом отображении стиля подключения полигона находятся еще две опции. С помощью поля ввода Conductor Width можно настроить ширину проводников, а с помощью поля ввода Air Gap Width — ширину термального зазора.

Одно правило Polygon Connect Style может задать только один стиль подключения. Поэтому для каждого стиля нужно создавать отдельное правило. Например, если к контактным площадкам электронных компонентов полигоны должны подключаться через термальный зазор, а к контактным площадкам переходных отверстий — непосредственно, то сначала нужно создать общее правило для всех контактных площадок, а потом — для контактных площадок переходных отверстий (рис. 30). Причем правило подключения полигонов к контактным площадкам переходных отверстий должно иметь более высокий приоритет, чем общее правило для всех контактных площадок.

Рис. 30. Пример правила для подключения полигонов к контактным площадкам переходных отверстий

Редактирование контура полигона

Контур полигона состоит из сегментов, соединенных в вершинах. Сегментами могут быть дуги или отрезки. При редактировании контура полигона можно оперировать как сегментами, так и вершинами. Чтобы приступить к редактированию контура полигона, его необходимо выделить щелчком ЛКМ. В результате полигон подсветится, а по периметру появятся маркеры — это маркеры либо вершин, либо центров.

Перемещение сегментов

Для перемещения сегмента нужно навести на него курсор. Выбранный сегмент подсветится, а курсор примет форму двунаправленной стрелки. После этого надо зажать левую клавишу мыши и перетянуть сегмент на новую позицию. На рис. 31 приведены примеры перемещения отрезков. Перемещение дуг выполняется аналогично.

Рис. 31. Примеры перемещения отрезка

Редактирование сегментов

Для того чтобы отредактировать сегмент, следует навести курсор на маркер центра и после того, как курсор изменит свой вид, зажать ЛКМ и перетянуть маркер на новую позицию. При этом поведение сегмента будет зависеть от текущего режима редактирования сегментов (рис. 32):

• свободное перемещение;
• излом;
• скругление.

Рис. 33. Режимы редактирования углов полигонов

Переключение между режимами редактирования сегментов полигона производится циклично нажатием сочетания клавиш Shift + «Пробел».

Редактирование вершин

Для редактирования вершины нужно навести курсор на маркер вершины и после того, как курсор изменит свой вид, зажать ЛКМ и перетянуть маркер на новую позицию. При этом поведение вершины зависит от текущего режима редактирования сегментов (рис. 33):

• перемещение;
• фаска;
• сопряжение.

Рис. 33. Режимы редактирования углов полигонов

Переключение между режимами редактирования сегментов полигона также производится циклично нажатием сочетания клавиш Shift + «Пробел».

Polygon Pour Cutout

Часто возникает ситуация, когда в полигоне необходимо сформировать вырез, свободный от металлизации. Для этого предназначена команда Place → Polygon Pour Cutout. По сути, она представляет собой регион определенного типа, в пределах которого запрещена металлизация (рис. 34).

Рис. 34. Пример региона Polygon Pour Cutout

После запуска команды Place –> Polygon Pour Cutout Altium Designer переходит в режим формирования контура региона. Процессы формирования и редактирования контура региона идентичны процессам формирования и редактирования контура полигона. После формирования или редактирования региона полигон необходимо перезалить, чтобы в нем появился или изменился соответствующий вырез.

Для редактирования свойств региона необходимо открыть окно его свойств Region (рис. 35). Для этого нужно совершить двойной щелчок ЛКМ по региону. В нашем случае для нас важны опции Locked и Layer. Первая позволяет заблокировать регион, а вторая — выбрать слой.

Рис. 35. Окно свойств Region

Polygon Manager

Менеджер полигонов Polygon Manager является мощным и эффективным средством управления полигонами. Чтобы его вызвать, необходимо выполнить команду Tools → Polygon Pours → Polygon Manager или выделить полигон, щелкнуть на нем ПКМ и в выпадающем меню выбрать команду Polygon Actions → Polygon Manager. Или воспользоваться горячими клавишами T → G → M. В результате откроется окно Polygon Pour Manager (рис. 36).

Рис. 36. Окно Polygon Manager

Верхнюю половину окна занимает таблица полигонов. Каждая ее строка представляет отдельный полигон. В графе Name отображается имя полигона. С помощью галочек графы Auto Assign Name можно включать или отключать автоматическое наименование полигонов. Если автоматическое наименование полигона отключено, то, предварительно активировав ячейку с именем, полигон можно переименовать.

В графе Layer отображается слой полигона. Его можно поменять, для чего нужно активировать ячейку, раскрыть выпадающий список и выбрать новый слой (рис. 37).

Рис. 37. Изменение слоя полигона в окне менеджера полигонов

Графа Net отображает цепь, к которой подключен полигон. С помощью галочек графы Shelved можно скрыть или восстановить полигон. Графа IsModified показывает, был ли полигон изменен. Галочки графы Locked предназначены для управления блокировкой полигона. С помощью галочек графы Ignore On-Line DRC Violations можно включить или отключить игнорирование полигоном ошибок в реальном времени.

Под таблицей находится ряд кнопок. Кнопка Repour предназначена для перезаливки полигонов. После ее нажатия открывается выпадающее меню (рис. 38), которое предоставляет пользователю следующий выбор:

• Modified Polygons— перезаливка измененных полигонов;
• Selected Polygons— перезаливка выбранных полигонов;
• Violating Polygons— перезаливка полигонов с нарушениями;
• Force Repour All Polygons— принудительная перезаливка всех полигонов.

Рис. 38. Перезаливка полигонов из окна менеджера полигонов

Далее расположены кнопки следующих опций:

• Shelving… — сокрытие или восстановление полигонов;
• Locking… — блокировка полигонов;
• Violations… — управление нарушениями;
• Auto Name… — управление наименованием полигонов.

Нажатие каждой из этих кнопок приводит к появлению выпадающих меню, каждое из которых построено следующим образом (пример на рис. 39):

• Включение опции для:
  • всех полигонов;
  • выбранных полигонов.
• Выключение опции для:
  • всех полигонов;
  • выбранных полигонов.

Рис. 39. Сокрытие и восстановление полигонов из окна менеджера полигонов

Две оставшиеся кнопки предназначены для формирования правил полигонов. С помощью кнопки Create Clearance Rule… создается персональное правило зазоров полигонов, а с помощью Create Polygon Connect Style Rule… — правило подключения полигонов к контактным площадкам. В обоих случаях правила формируются для всех выделенных в таблице полигонов.

Если щелкнуть ПКМ в таблице полигонов, откроется выпадающее меню (рис. 40). Все его пункты, за исключением нижних четырех, повторяют описанные выше кнопки опций, поэтому их рассматривать не будем, а перейдем к четырем оставшимся.

Рис. 40. Выпадающее меню окна менеджера полигонов

Пункт Create New Polygon From позволяет создать новый полигон на основе уже существующей геометрии. Этот пункт имеет два варианта (рис. 40):

• Selected Polygon— создание полигона на основе существующего выбранного полигона;
• Board Outline— создание полигона на основе контура печатной платы.

После выбора одного из вариантов откроется окно Polygon Pour…, в котором необходимо сделать предварительную настройку полигона. После нажатия кнопки OK будет создан новый полигон.

Пункт Create Polygon Class предназначен для формирования класса полигонов. После выбора этого пункта откроется окно Object Class Name, в котором необходимо задать имя класса.

Оставшиеся пункты Delete и Properties предназначены для удаления или для доступа к свойствам выбранного полигона.

В нижней правой части окна менеджера полигонов находится область отображения выбранного полигона, а в нижней левой части — область Pour Order, которая предназначена для отображения и редактирования приоритета заливки полигонов. Чем выше в этом окне расположен полигон, тем выше его приоритет. Там же предусмотрено несколько кнопок. С помощью Move Up и Move Down можно менять приоритет заливки полигона. Кнопка Auto Generate автоматически изменяет приоритет полигонов в соответствии с их геометрией. Под этими тремя кнопками расположена кнопка Animate Pour Order, которая позволяет анимированным способом просмотреть, в какой последовательности будут перезаливаться полигоны.

Нажатие кнопки Apply приведет к тому, что все внесенные в окне менеджера полигонов изменения будут применены к полигонам на плате, но само окно останется открытым для дальнейшей работы. А нажатие кнопки OK приведет к закрытию окна, но при этом для применения изменений все полигоны нужно перезалить.

Заключение

Среда Altium Designer предлагает пользователям весьма гибкие и очень эффективные средства для работы с полигонами. Их использование позволяет сэкономить часы, если не десятки часов рабочего времени, которое требуется на конструирование печатной платы. А это уже серьезное подспорье в деле достижения высокого качества разработок электронных изделий и их серьезной конкурентоспособности. Надеемся, данная статья окажется полезной как новичкам в области проектирования печатных плат, так и опытным специалистам.